湖南真空镀膜设备系统

    【真空镀膜设备捡漏方法】:检漏方法很多，根据被检件所处的状态可分为充压检漏法、真空检漏法及其它检漏法。充压检漏法：在被检件内部充入一定压力的示漏物质，如果被检件上有漏孔，示漏物质便从漏孔漏出，用一定的方法或仪器在被检件外部检测出从漏孔漏出的示漏物质，从而判定漏孔的存在、位置及漏率的大小，此即充压检漏法。真空检漏法：被检件和检漏器的敏感元件处于真空状态，在被检件的外部施加示漏物质，如果有漏孔，示漏物质就会通过漏孔进入被检件和敏感元件的空间，由敏感元件检测出示漏物质，从而可以判定漏孔的存在、位置利漏率的大小，这就是真空检漏法。其它检漏法：被检件既不充压也不抽真空，或其外部受压等方法归入其它检漏法。背压法就是其中主要方法之一。所谓“背压检漏法”是利用背压室先将示漏气体由漏孔充入被检件，然后在真空状态下使示漏气体再从被检件中漏出．以某种方法(或检漏仪)检测漏出的示漏气体，判定被检件的总漏率的方法。 关于真空镀膜设备，你知道多少？湖南真空镀膜设备系统

【真空镀膜设备之真空的测量】： 真空计： A、热偶规、皮拉尼规、对流规： 用来测粗真空的真空计，从大气到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼规精度高的可到5%, 反应较慢，受温度变化的影响较大。 B、离子规： 用来测高真空或超高真空的真空计，热灯丝的离子规测量范围一般从1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，灯丝在工作时遇到大气会烧毁；冷阴极的离子规一般可以测到1E&11Torr，精度在20%~50%，特别是超高真空下测量精度很差，需要高压电源，探头内有磁铁，使用时不能用于某些无磁的场合。 C、电容式压力计： 探头Zui大压力从25000Torr到0.1Torr，动态范围大约104范围，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在读数的0.25%，可以高到0.15%。 D、宽量程真空计： 皮拉尼规和热灯丝离子规的组合，两个规可以自动切换，在低真空时切换到皮拉尼规，高真空时可切换到离子规。湖南磁控溅射真空镀膜设备电子束蒸发真空镀膜设备是什么？

【真空蒸镀的历史】：1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油扩散式真空泵实用化、蒸镀主要用于制作镜片防反射膜。第二次世界大战时，其他的光学机器对材料的需求提高，真空蒸镀也因此快速发展。【真空蒸镀的原理】：在真空状态下，加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。【蒸发镀膜的优缺点】：优点：设备简单、容易操作；成膜的速率快，效率高。缺点：薄膜的厚度均匀性不易控制，蒸发容器有污染的隐患，工艺重复性不好，附着力不高。

【光谱分光不良的补救（补色）之其他情况】：分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。中断的原因形式之其他情况：对于用错程序，错误操作（预熔未关闭挡板等）人为中断需要补救的；以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案：模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟（一般是Zui后一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果相应的膜系数据。优化：根据模拟得到的膜系数据，输入产品要求的优化目标值，通过加层、优化后续膜层的方法，重新优化设计一个补救膜系。试镀：确认、完善补救膜系效果补救镀：完成补救工作真空镀膜设备产业集群。

【离子镀膜法之活性反应蒸镀法】：活性反应蒸镀法(ABE):利用电子束加热使膜材气化；依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气、氮气、乙炔等反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，蒸镀效率高，能获得三氧化铝(AL2O3)、氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)等薄膜；可用于镀机械制品、电子器件、装饰品。【离子镀膜法之空心阴极离子镀(HCD)】：空心阴极离子镀(HCD):利用等离子电子束加热使膜材气化；依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体Ar或其它惰性气体、反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，离化率高，电子束斑较大，能镀金属膜、介质膜、化合物膜；可用于镀装饰镀层、机械制品。真空镀膜设备怎么保养？江苏真空镀膜设备系统

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【离子镀的历史】：真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。【离子镀的原理】：蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。湖南真空镀膜设备系统